我司生產的銅刻蝕液，能夠滿足大尺寸高分辨率的液晶顯示屏制程要求；

        具有下列技術特征: 

        1.刻蝕后金屬具有良好的刻蝕錐角；

        2.無金屬殘渣；

        3.含銅配線具有良好的CD Bias范圍；

        4.銅承載能力高；5.含銅廢液易處理，等等。

        超凈高純(VLSD) 試劑是大規模集成電路(IC) 及高檔半導體器件制造過程的專用化學品，主要用于硅單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中，它的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能、可靠性都有著重要的影響。

        超凈高純試劑通常由低純試劑或工業品經過純化精制而成，其工藝過程包括選料、提純、過濾、分裝、儲存等重要環節。